[发明专利]一种整片晶圆纳米压印光刻机有效
| 申请号： | 201110266251.0 | 申请日： | 2011-09-08 |
| 公开（公告）号： | CN102346369A | 公开（公告）日： | 2012-02-08 |
| 发明（设计）人： | 兰红波;丁玉成 | 申请（专利权）人： | 青岛理工大学 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 济南圣达知识产权代理有限公司 37221 | 代理人： | 张勇 |
| 地址： | 266033 山*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种整片晶圆纳米压印光刻机，它包括压印头、曝光系统、模板、承片台、脱模喷嘴、机架、大理石底座、真空管路和压力管路，其中，模板固定于压印头上，承片台置于模板的垂直正下方，并固定在大理石底座上，承片台周边设有脱模喷嘴；曝光系统的紫外光源置于压印头内；真空管路和压力管路均与压印头相连；真空管路还与承片台相连。本发明还公开了使用该设备实现整片晶圆纳米压印的方法。本发明的整片晶圆纳米压印光刻机，具有结构简单、适应性广、操作方便、制造成本低和可靠性高等优点，可应用于LED图形化、微透镜、微流体器件的制造，尤其适合光子晶体LED的低成本和规模化制造。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 整片晶圆 纳米 压印 光刻 | ||
【主权项】：
一种整片晶圆纳米压印光刻机，其特征是，它包括：压印头(1)、曝光系统(2)、模板(3)、承片台(4)、脱模喷嘴(5)、机架(6)、大理石底座(7)、真空管路(8)和压力管路(9)，其中，所述模板(3)固定于压印头(1)上，承片台(4)置于模板(3)的垂直正下方，并固定在大理石底座(7)上，承片台周边设有脱模喷嘴(5)；曝光系统(2)的紫外光源置于压印头(1)内；真空管路(8)与承片台(4)相连，真空管路(8)和压力管路(9)分别与压印头(1)相连。
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