[发明专利]用于掩模对准的对准信号采集系统及对准方法

摘要

本发明公开一种用于掩模对准的信号采集与信号处理系统，其中信号采集系统包括：照明单元，用于提供一激光脉冲；掩模台单元；投影物镜，用以对该掩模标记成像；工件台单元；光强采集单元，用于采集该掩模标记的像扫描过该工件台标记时形成的二维空间像的光强信号；对准操作控制单元，用于接收并处理来自该掩模台单元、工件台单元及光强采集单元的信息以获得一对准位置。本发明提供的信号处理系统，是基于包含最大光强、水平向对准位置、垂向对准位置、二维空间像的像宽和像高等参量的拟合数学模型，运用麦夸托(Marquardt)迭代算法进行迭代拟合，求出对准位置、最大光强值、二维空间像的像宽和像高。

主权项

一种用于掩模对准的对准信号采集系统，用以实现工件台相对于掩模台位置的确定，其特征在于，包括：照明单元，用于提供一激光脉冲；掩模台单元，所述掩模台单元包括：掩模台、掩模台位置测量模块及掩模台控制模块，所述掩模台控制模块根据所述掩模台位置测量模块所获得的掩模台位置数据移动位于所述掩模台上的掩模标记；投影物镜，用以对所述掩模标记成像；工件台单元，所述工件台单元包括：工件台、工件台位置测量模块及工件台控制模块，所述工件台控制模块根据所述工件台位置测量模块所获得的工件台位置数据移动位于所述工件台上的工件标记，并根据对准扫描参数进行水平及垂向运动；光强采集单元，用于采集所述掩模标记的像扫描过所述工件台标记时形成的二维空间像的光强信号；对准操作单元，用于接收并处理来自所述掩模台单元、工件台单元及光强采集单元的信息以获得一对准位置；所述对准操作单元处理所述信息采用以下对准信号拟合模型： F ( x , z ) = A · f ( z ) · e [ f ( z ) · x - x 0 AIX ] 2 f ( z ) = [ 1 + | z - z 0 AIZ | 3 ] - 1 3 , 其中A是光强最大值，x0是水平向对准位置，z0是垂向对准位置，F是所述二维空间像的光强信号，AIX是所述二维空间像的像宽，AIZ是所述二维空间像的像高，x是水平向位置，z是垂向位置。