[发明专利]一种防止雾化的光罩板及其制造方法无效
| 申请号： | 201110276460.3 | 申请日： | 2011-09-16 |
| 公开（公告）号： | CN102323715A | 公开（公告）日： | 2012-01-18 |
| 发明（设计）人： | 王省莲;刘波波;李建婷;刘大为;李伟霖 | 申请（专利权）人： | 西安中为光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/48 | 分类号： | G03F1/48;C23C14/08 |
| 代理公司： | 西安智大知识产权代理事务所 61215 | 代理人： | 弋才富 |
| 地址： | 710065 陕*** | 国省代码： | 陕西;61 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种防止雾化的光罩板及其制造方法，该光罩板从内到外依次包括防光罩层、粘胶层、感光乳胶层以及保护膜，所述光罩板还包括在所述保护膜的外面镀一层抗腐蚀的透明纳米等离子保护层，其制造方法包括如下步骤：清洗贴好保护膜的光罩板、镀抗腐蚀的透明纳米等离子保护层、退火处理；该光罩板具有防止结晶体尺寸长大，防止光罩板雾化，提高其使用寿命，降低光刻生产成本的特点；该光罩板的制造方法具有操作简单，不受光刻生产环境的条件限制的特点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 防止 雾化 光罩板 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种防止雾化的光罩板，从内到外依次包括防光罩层、粘胶层、感光乳胶层以及保护膜，其特征在于：所述光罩板还包括在所述保护膜的外面镀一层抗腐蚀的透明纳米等离子保护层。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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