[发明专利]一种三级掺杂水平的选择性发射极及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201110276579.0 申请日: 2011-09-19
公开(公告)号: CN102306684A 公开(公告)日: 2012-01-04
发明(设计)人: 刘锋 申请(专利权)人: 刘锋
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/0352
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 200240 上海市闵行区东川路*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种选择性发射极及其制备方法,适用于晶体硅太阳电池选择性发射极的制备。针对印刷掺杂法制备二级掺杂选择性发射极存在的问题,如掺杂效果受间接扩散影响大、油墨反应残留多、扩散后硅片不易清洗等问题,本发明充分利用太阳电池金属电极主线和副线的功能差异特性,采用含低填墨率主线的印刷图案将掺杂油墨印刷到硅片上,经过热处理后,可制备出三级掺杂水平的选择性发射极结构:覆盖油墨的副线1和覆盖油墨的主线图形阵列3获得重度掺杂;无油墨的非电极区域2获得轻度掺杂;无油墨的主线空白区域4获得中度掺杂。本方法可减少20%以上掺杂油墨的耗量,从而有效降低来自主线区域油墨的间接扩散影响,油墨反应残留物变少,扩散后硅片更容易清洗干净。
搜索关键词: 一种 三级 掺杂 水平 选择性 发射极 及其 制备 方法
【主权项】:
将掺杂油墨按照特定图案印刷到硅片上,然后对硅片进行一系列热处理,其特征在于:通过上述操作,可在硅片上获得具有重度、中度和轻度三级掺杂水平的选择性发射极。
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