[发明专利]一种三级掺杂水平的选择性发射极及其制备方法有效
申请号: | 201110276579.0 | 申请日: | 2011-09-19 |
公开(公告)号: | CN102306684A | 公开(公告)日: | 2012-01-04 |
发明(设计)人: | 刘锋 | 申请(专利权)人: | 刘锋 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/0352 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 200240 上海市闵行区东川路*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及一种选择性发射极及其制备方法,适用于晶体硅太阳电池选择性发射极的制备。针对印刷掺杂法制备二级掺杂选择性发射极存在的问题,如掺杂效果受间接扩散影响大、油墨反应残留多、扩散后硅片不易清洗等问题,本发明充分利用太阳电池金属电极主线和副线的功能差异特性,采用含低填墨率主线的印刷图案将掺杂油墨印刷到硅片上,经过热处理后,可制备出三级掺杂水平的选择性发射极结构:覆盖油墨的副线1和覆盖油墨的主线图形阵列3获得重度掺杂;无油墨的非电极区域2获得轻度掺杂;无油墨的主线空白区域4获得中度掺杂。本方法可减少20%以上掺杂油墨的耗量,从而有效降低来自主线区域油墨的间接扩散影响,油墨反应残留物变少,扩散后硅片更容易清洗干净。 | ||
搜索关键词: | 一种 三级 掺杂 水平 选择性 发射极 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
将掺杂油墨按照特定图案印刷到硅片上,然后对硅片进行一系列热处理,其特征在于:通过上述操作,可在硅片上获得具有重度、中度和轻度三级掺杂水平的选择性发射极。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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