[发明专利]一种OLED用铬蚀刻液及其制备方法与应用有效
| 申请号： | 201110279550.8 | 申请日： | 2011-09-20 |
| 公开（公告）号： | CN102505118A | 公开（公告）日： | 2012-06-20 |
| 发明（设计）人： | 冯卫文 | 申请（专利权）人： | 绵阳艾萨斯电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/26 | 分类号： | C23F1/26 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人： | 关畅 |
| 地址： | 621000 四川省绵*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种OLED用铬蚀刻液及其制备方法与应用。该铬蚀刻液，包括硝酸铈铵、硝酸水溶液、阳离子表面活性剂和水。所述硝酸铈铵占所述蚀刻液总重的百分比为5-30％，优选为10-20％；所述硝酸水溶液占所述蚀刻液总重的百分比为0.5-10％，优选为1-5％；所述阳离子表面活性剂占所述蚀刻液总重的百分比0.01-5％，优选为0.1-1％；余量为所述水。该蚀刻液能够在不发生抗蚀涂层渗透的情况下进行蚀刻，显著提高铬金属膜的蚀刻速度，能够将铬金属膜膜控制性良好且不发生抗蚀涂层渗透的情况下进行蚀刻，从而高效地得到高精度平滑的金属膜电极或配线，具有重要的应用价值。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 oled 蚀刻 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
一种蚀刻液，包括硝酸铈铵、硝酸水溶液、阳离子表面活性剂和水。
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