[发明专利]独特传动机构传片技术进行硅薄膜镀膜无效
申请号: | 201110279821.X | 申请日: | 2011-09-20 |
公开(公告)号: | CN103014678A | 公开(公告)日: | 2013-04-03 |
发明(设计)人: | 戴嘉男;刘幼海;刘吉人 | 申请(专利权)人: | 吉富新能源科技(上海)有限公司 |
主分类号: | C23C16/54 | 分类号: | C23C16/54;C23C16/458;C23C16/24 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 201707 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明是独特传动机构传片技术进行硅薄膜镀膜。其系统主要包含入口端、传动机构、抽真空腔、P.I.N型制程腔、出口端。每个腔体有传动轮轴及真空Pump,制程腔内有加热装置、Showerhead气流孔与RF电极。本发明传动机构传片设置在入口端及出口端,其本体为一平台,传动机构传片上有线性马达及履带片。将平台利用线性马达及履带片作动作,此发明让平台照顺序对台车上的玻璃进行取片,接着平台上滚轮将平台移到台车内,平台作升降动作,将玻璃顶起置在平台上,接着平台回流至传动机构,平台用滚轮将玻璃传入到抽真空腔,随后抽真空及进行P.I.N型制程,完成制程后,以相反方向完成动作。如此可提高镀膜完整度,不易让玻璃受到脏污及损伤,可提高太阳能硅薄膜效率。 | ||
搜索关键词: | 独特 传动 机构 技术 进行 薄膜 镀膜 | ||
【主权项】:
一种独特传动机构传片技术进行硅薄膜镀膜,其系统主要包含入口端、入口端传动机构、抽真空腔、P.I.N型半导体制程腔、出口端,在每个腔体内都设有传动轮轴及真空Pump,且制程腔内则有加热装置、Showerhead气流孔与RF电极,以进行制程;而本发明传动机构传片,则是设置在入口端及出口端处,其主要本体为一平台,在传动机构传片上设有线性马达及履带片,可以让平台可以作上升及下降工作,另外在平台上也设有滚轮轴承,此滚轮轴承可以将玻璃从台车取片出来放置于平台上;因此其发明是将平台利用线性马达及履带片作上升及下降动作,此发明可以让平台可以照顺序对台车上的玻璃进行取片,而不会造成平台撞到玻璃的可能,接着平台上的滚轮会将平台平移到台车上,然后使平台作升降动作,将玻璃顶起,并放置在平台上,接着平台会回流至传动机构上,平台上升至适当位置可以用滚轮方式将玻璃传入到抽真空腔内,随后抽真空及进行P.I.N型半导体制程,当完成制程后,其玻璃会再利用滚轮传到出口端并放置于平台上,接着平台同样利用履带升降,降到可以将玻璃移到台车位置,随后滚轮轴承将平台伸出至台车内部,并将玻璃放置于台车上,随后平台再回到传动机构上,即完成此动作;如此可以提高膜层镀膜完整度,且不易让玻璃受到脏污及损伤,可以提高太阳能硅薄膜效率。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的