[发明专利]减小了叠加失准的直接接合方法有效
申请号: | 201110281229.3 | 申请日: | 2011-09-21 |
公开(公告)号: | CN102412122A | 公开(公告)日: | 2012-04-11 |
发明(设计)人: | M·波卡特;格维塔兹·戈丹;阿诺德·卡斯泰 | 申请(专利权)人: | 硅绝缘体技术有限公司 |
主分类号: | H01L21/18 | 分类号: | H01L21/18;H01L21/20;H01L21/02 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 李辉;吕俊刚 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | 本发明提供了一种减小了叠加失准的直接接合方法。具体来说,一种将在接合之前具有本征曲率(K1)的第一晶圆(100)直接接合至在接合之前具有本征曲率(K2)的第二晶圆(200)的方法,两个晶圆中的至少一个(100)包括至少一系列的微组件(110)。所述方法包括使两个晶圆(100、200)彼此接触以在两个晶圆之间开始传播接合波的至少一个步骤。在接触步骤期间,根据包括一系列微组件(110)的晶圆(100)的接合之前的本征曲率(K1)将旋转抛物面形式的预定接合曲率(KB)施加在两个晶圆中的一个上,另一晶圆自由地顺应于所述预定接合曲率(KB)。 | ||
搜索关键词: | 减小 叠加 失准 直接 接合 方法 | ||
【主权项】:
一种用于将在接合之前具有本征曲率(K1)的第一晶圆(100)直接接合至在接合之前具有本征曲率(K2)的第二晶圆(200)的方法,这两个晶圆中的至少一个(100)包括至少一系列的微组件(110),所述方法包括使两个晶圆(100、200)彼此接触以在这两个晶圆之间开始传播接合波的至少一个步骤,所述方法的特征在于,在接触步骤期间,将旋转抛物面形式的预定接合曲率(KB)施加在这两个晶圆中的一个上,另一个晶圆自由地顺应于所述预定接合曲率(KB),其中,所述预定接合曲率至少取决于包括一系列微组件(110)的晶圆(100)的接合之前的本征曲率(K1)。
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