[发明专利]一种提高数字无掩模光刻分辨力的方法无效
| 申请号： | 201110286667.9 | 申请日： | 2011-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN102331685A | 公开（公告）日： | 2012-01-25 |
| 发明（设计）人： | 罗宁宁;高益庆;张志敏;吴华明 | 申请（专利权）人： | 南昌航空大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 南昌洪达专利事务所 36111 | 代理人： | 刘凌峰 |
| 地址： | 330000 江西省*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种提高数字无掩模光刻分辨力的方法，涉及无掩模光刻技术领域。它是先将原始空间频率较高的灰度掩模分解成m幅与原始灰度掩模大小相等、空间频率稍低的灰度掩模，再依次将每幅降频后的灰度掩模分解成n幅大小相等的低频二值掩模。原始空间频率较高的灰度掩模共分解成m n幅二值掩模，利用SLM动态控制掩模的特性，将这m n幅二值掩模沿垂直于掩模所在平面的方向顺序对准叠加曝光，每幅掩模的曝光时间ti遵循一定的变化规律。本发明提出的方法避免了数字灰度掩模中相邻像素因灰阶不同而构成高频光栅的情况，从而降低精缩透镜组低通滤波特性对曝光的影响，较好地改善了光刻胶上曝光图形的边缘锐度，提高了数字无掩模光刻的分辨力。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 提高 数字 无掩模 光刻 分辨力 方法 | ||
【主权项】：
1.一种提高数字无掩模光刻分辨力的方法，其特征在于：首先将原始空间频率较高的灰度掩模分解成m幅与原始灰度掩模大小相等、空间频率稍低的灰度掩模，m为大于等于1的整数；再依次将每幅降频后的灰度掩模分解成n幅大小相等的低频二值掩模，n为大于等于2的整数；原始空间频率较高的灰度掩模共分解成mn幅二值掩模，利用SLM动态控制掩模的特性，将这mn幅二值掩模沿垂直于掩模所在平面的方向顺序对准叠加曝光，每幅掩模的曝光时间为![]()
，其中i为大于等于1的整数，表示二进制数据中的位序，从而得到优于原始灰度掩模一次曝光的多次叠加曝光结果。
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