[发明专利]一种不连续高金属质感膜层的镀膜方法有效

专利信息
申请号: 201110292530.4 申请日: 2011-09-30
公开(公告)号: CN102366742A 公开(公告)日: 2012-03-07
发明(设计)人: 龚玉根;唐赵宝;张双文;谢守德 申请(专利权)人: 东莞劲胜精密组件股份有限公司;东莞华清光学科技有限公司
主分类号: B05D5/00 分类号: B05D5/00;B05D5/12;B05D1/02;B05D3/00;B05D3/02;C23C14/35;C23C14/14
代理公司: 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 代理人: 罗晓林;李志强
地址: 523878 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开一种不连续高金属质感膜层的镀膜方法,该镀膜方法依次包括喷涂UV底漆、镀制高金属质感不导电膜层和喷涂UV面漆三个步骤,其中,镀制高金属质感不导电膜层是以长×宽×厚=1009mm×124.7mm×8mm的硅铝合金为靶材料,采用磁控溅射镀膜技术,对待镀膜产品进行镀膜;本发明选择将连续磁控溅射镀膜技术应用到手机外壳和平板电脑外框等塑胶材料上,并采用硅铝合金为靶材料,磁控溅射溅射靶材是以原子的方式沉淀在基板上,膜层致密,牢固度好,镀膜后暴露在在空气中时间长膜层稳定。本发明镀膜方法得到的产品,金属质感超强,且耐候性好。本发明镀膜方法操作简单、无毒无污染,易于控制,适合工业化生产。
搜索关键词: 一种 连续 金属 质感 镀膜 方法
【主权项】:
一种不连续高金属质感膜层的镀膜方法,该镀膜方法依次包括喷涂UV底漆、镀制高金属质感不导电膜层和喷涂UV面漆三个步骤,其特征在于:所述镀制高金属质感不导电膜层是以硅铝合金为靶材料,采用磁控溅射镀膜技术,对待镀膜产品进行镀膜。
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