[发明专利]成膜基板的制造方法、成膜基板及成膜装置无效

专利信息
申请号: 201110295469.9 申请日: 2011-09-27
公开(公告)号: CN102447005A 公开(公告)日: 2012-05-09
发明(设计)人: 岩田宽 申请(专利权)人: 住友重机械工业株式会社
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/0224
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 徐殿军
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种成膜基板的制造方法、成膜基板及成膜装置,所述成膜基板实现了提高玻璃基板与钼层的粘附力。在含有预定量氧的第1气氛中,在玻璃基板(2)的表面成膜第1钼层(3a),在含氧率低于第1气氛的第2气氛中,在第1钼层(3a)的表面成膜第2钼层(3b)。由此,能够在玻璃基板(2)上成膜包含氧化钼的粘附层(3a),并在该粘附层(3a)上成膜钼层(3b)。
搜索关键词: 成膜基板 制造 方法 装置
【主权项】:
一种成膜基板的制造方法,制造在玻璃基板上成膜有钼的成膜基板,其特征在于,该制造方法具备:第1成膜工序,在含有氧的第1气氛中,在所述玻璃基板的表面成膜第1钼层;及第2成膜工序,在含氧率低于所述第1气氛的第2气氛中,在所述第1钼层的表面成膜第2钼层。
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