[发明专利]一种利用辉光颜色控制等离子刻蚀反应速率的方法

摘要

本发明属于半导体光电技术领域，具体涉及到一种利用辉光颜色控制等离子刻蚀反应速率的方法。该等离子刻蚀气体成分主要为O2、N2和CF4组成，各组分流量比为O2：N2：CF4=1：1~3：6~10。本发明特点为在等离子刻蚀辉光过程中，通入定量的氮气，而氮气辉光时，会产生红色，当等离子刻蚀反应速率不同时，辉光的颜色也不同，反应速率由快到慢，分别为浅粉色，粉红色，红色。通过调整辉光时的颜色，确定最佳的辉光功率和时间，可以较容易的控制等离子刻蚀反应速率，进而解决了太阳电池生产过程中，出现的过度刻蚀及刻蚀不足现象。此方法简单、实用，只需简单改进现有等离子刻蚀机设备，不增加生产成本。

主权项

一种利用辉光颜色控制等离子刻蚀反应速率的方法，其特征包括以下工艺步骤：1）放入硅片，关上反应室门，打开真空泵，将腔室压力抽到5mTorr以下；2）通入反应气体，O2的流量为40~50sccm，N2的流量为40~150sccm，CF4流量为240~500sccm，压力恒定到300~400mTorr；3）打开高频电源，进行辉光，通过观察辉光颜色，来确定最佳的射频功率（800~900W）和反应时间（700~1000s）；4）关闭高频电源，停止通入反应气体，将腔室压力抽到5mTorr以下时，通入N2，直到反应室内压强为标准大气压，打开反应室门，取出硅片。