[发明专利]高压氮化物LED器件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201110298596.4 申请日: 2011-09-30
公开(公告)号: CN102354699A 公开(公告)日: 2012-02-15
发明(设计)人: 肖德元;于洪波;于婷婷;程蒙召;张汝京 申请(专利权)人: 映瑞光电科技(上海)有限公司
主分类号: H01L27/15 分类号: H01L27/15;H01L33/02;H01L33/36;H01L33/00;H01L33/48;H01L33/62
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 郑玮
地址: 201306 上海市浦东新区*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提出一种高压氮化物LED器件的制造方法,包括如下步骤:提供一衬底,在衬底上依次形成有N型氮化物成核层和外延层;蚀刻所述外延层形成N型接触电极台阶;依次蚀刻所述N型氮化物成核层,形成LED隔离沟槽,所述LED隔离沟槽暴露出所述衬底的表面;在所述N型接触电极台阶上制作N型接触电极,在所述外延层上制作P型接触电极,形成多个LED单元芯片;对所述多个LED单元芯片进行光电性能测试,并根据所述测试结果选择性的对所述多个LED单元芯片进行激光划片,以将所述多个LED单元芯片分组切割成至少一个LED模块。本发明还提供了一种高压氮化物LED器件,以降低整体LED芯片产业成本、提高成品率。
搜索关键词: 高压 氮化物 led 器件 及其 制造 方法
【主权项】:
一种高压氮化物LED器件的制造方法,包括如下步骤:提供一衬底,所述衬底上依次形成有N型氮化物成核层和外延层;蚀刻所述外延层形成N型接触电极台阶;依次蚀刻所述N型氮化物成核层,形成LED隔离沟槽,所述LED隔离沟槽暴露出所述衬底的表面;在所述N型接触电极台阶上制作N型接触电极,在所述外延层上制作P型接触电极,形成多个LED单元芯片;对所述多个LED单元芯片进行光电性能测试,并根据所述测试结果选择性的对所述多个LED单元芯片进行激光划片,以将多个LED单元芯片分组切割成至少一个LED模块;对所述LED模块进行封装,所述LED模块中的各LED单元芯片通过引线进行串联和/或并联,形成高压氮化物LED器件。
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