[发明专利]一种等离子体预清洗装置有效
| 申请号： | 201110299536.4 | 申请日： | 2011-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN103014745A | 公开（公告）日： | 2013-04-03 |
| 发明（设计）人： | 吕铀 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | C23G5/04 | 分类号： | C23G5/04 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 张天舒;陈源 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种等离子体预清洗装置，包括线圈、法拉第屏蔽件、介质桶、设置在所述介质桶顶端的顶盖以及与所述介质桶底端相连的腔体，所述法拉第屏蔽件套在所述介质桶的外侧，所述线圈缠绕在所述法拉第屏蔽件的外侧，所述法拉第屏蔽件包括沿所述介质桶周缘方向排列的至少两个相互不接触的法拉第屏蔽单元。该等离子体预清洗装置不仅可以减少线圈与等离子体之间容性耦合的发生，而且可以减少、甚至避免法拉第屏蔽件上产生涡流，从而可以提高作用在线圈上的射频功率的能量耦合效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 等离子体 清洗 装置 | ||
【主权项】：
一种等离子体预清洗装置，包括线圈、法拉第屏蔽件、介质桶、设置在所述介质桶顶端的顶盖以及与所述介质桶底端相连的腔体，所述法拉第屏蔽件套在所述介质桶的外侧，所述线圈缠绕在所述法拉第屏蔽件的外侧，其特征在于，所述法拉第屏蔽件包括沿所述介质桶周缘方向排列的至少两个相互不接触的法拉第屏蔽单元。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司，未经北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201110299536.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：输电铁塔组件的调整装置
- 下一篇：钢铁表面制备铝钼共渗合金涂层的方法
