[发明专利]闪存单元及其形成方法有效
| 申请号： | 201110300184.X | 申请日： | 2011-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN102339834A | 公开（公告）日： | 2012-02-01 |
| 发明（设计）人： | 曹子贵 | 申请（专利权）人： | 上海宏力半导体制造有限公司 |
| 主分类号： | H01L27/115 | 分类号： | H01L27/115;H01L29/10;H01L21/8247;G11C16/04 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 骆苏华 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明的技术方案提供一种闪存单元，包括：半导体衬底；位于半导体衬底表面的栅极结构，所述栅极结构包括依次形成的隧穿氧化层、浮动栅极、隔离氧化层和控制栅极；位于所述栅极结构两侧半导体衬底内的源、漏极；所述浮动栅极靠近漏极的一端的掺杂类型为p型，其他部分的掺杂类型为n型。本发明的技术方案还提供形成所述闪存单元的方法，本发明所提供的闪存单元具有较好的可靠性。 | ||
| 搜索关键词： | 闪存 单元 及其 形成 方法 | ||
【主权项】：
一种闪存单元，包括：半导体衬底；位于半导体衬底表面的栅极结构，所述栅极结构包括依次形成的隧穿氧化层、浮动栅极、隔离氧化层和控制栅极；位于所述栅极结构两侧半导体衬底内的源、漏极；其特征在于，所述浮动栅极靠近漏极的一端的掺杂类型为p型，其他部分的掺杂类型为n型。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海宏力半导体制造有限公司，未经上海宏力半导体制造有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201110300184.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：用于粗纱机上的链条结合件
- 下一篇：侧缘浇口喷嘴
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的；包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的；包括有热磁组件的
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的；包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的；包括有热磁组件的
