[发明专利]曝光装置和曝光方法以及器件制造方法有效
| 申请号： | 201110302682.8 | 申请日： | 2004-10-12 |
| 公开（公告）号： | CN102360167A | 公开（公告）日： | 2012-02-22 |
| 发明（设计）人： | 安田雅彦;正田隆博;金谷有步;长山匡;白石健一 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 金春实 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种曝光装置和曝光方法以及器件制造方法，其中，曝光装置(EX)具备：可保持基片(P)并进行移动的基片台(PST)，检测基片台(PST)所保持的基片(P)上的对准标记1，并且检测被设置于基片台(PST)的基准标记(PFM)的基片对准系统(5)；以及经由投影光学系统(PL)检测被设置于基片台(PST)的基准标记(MFM)的掩模对准系统(6)。使用基片对准系统(5)无液体地检测被设置于基片台(PST)的基准标记(PFM)，并且使用掩模对准系统(6)经由投影光学系统(PL)和液体(LQ)检测被设置于基片台(PST)的基准标记(MFM)，以求得基片对准系统(5)的检测基准位置与图案像的投影位置的位置关系。这样就能够在浸液曝光中精确地进行对准处理。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 方法 以及 器件 制造 | ||
【主权项】：
一种经由液体将曝光光照射到基片上，由此来曝光上述基片的曝光装置，其特征在于具备：具有保持上述基片的基片架，在上述基片架上保持上述基片并可移动的基片台；供给液体的液体供给机构；检测在上述基片架上是否保持着基片或者虚设基片的检测器；以及基于上述检测器的检测结果来控制上述液体供给机构的动作的控制装置。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社尼康，未经株式会社尼康许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201110302682.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种瓷体补釉的方法
- 下一篇：一种用于煤粉锅炉的球磨机
