[发明专利]图案形成装置及图案形成方法无效
申请号: | 201110302788.8 | 申请日: | 2011-09-28 |
公开(公告)号: | CN102694061A | 公开(公告)日: | 2012-09-26 |
发明(设计)人: | 真田雅和;岩岛正信;古市考次 | 申请(专利权)人: | 大日本网屏制造株式会社 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 宋晓宝;郭晓东 |
地址: | 日本国京*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种在基板上涂敷涂敷液来形成规定的图案的图案形成技术中高效地在不规则形状基板上形成图案的技术。具有:第一嘴体(52),沿着与对基板进行扫描的扫描移动方向垂直的方向(Y方向),列状地排列有喷出涂敷液的喷嘴(523);第二嘴体(72),具有能够通过滚珠螺杆机构(740)改变Y方向位置的一对喷嘴(723)。通过从第一嘴体(52)喷出涂敷液,形成相互平行且长度相同的多个图案,另一方面,通过在与利用第一嘴体(52)形成图案的时刻相独立的时刻被控制而进行涂敷的第二嘴体(72),来形成长度与该图案的长度不同的图案。 | ||
搜索关键词: | 图案 形成 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种图案形成装置,其特征在于,具有:基板保持装置,保持基板,第一嘴体,列状地排列配置有多个第一喷出口,所述多个第一喷出口分别喷出含有用于形成图案的材料的涂敷液,第二嘴体,具有喷出所述涂敷液的第二喷出口,移动装置,使所述第一嘴体沿着与所述第一喷出口的排列方向垂直的扫描移动方向相对于所述基板移动,并且使所述第二嘴体沿着所述扫描移动方向,以所述第二喷出口在所述排列方向上通过所有所述第一喷出口的外侧的方式相对于所述基板移动;从所述第一喷出口喷出所述涂敷液的时刻和从所述第二喷出口喷出所述涂敷液的时刻不同。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大日本网屏制造株式会社,未经大日本网屏制造株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110302788.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:服务的混搭方法和装置
- 下一篇:运载火箭惯性平台的脉冲信号测试装置
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的