[发明专利]温度测量方法有效
| 申请号： | 201110303076.8 | 申请日： | 2011-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN102445284A | 公开（公告）日： | 2012-05-09 |
| 发明（设计）人： | 舆水地盐;山涌纯;松土龙夫 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | G01K11/00 | 分类号： | G01K11/00 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;张会华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种温度测量方法。该温度测量方法即使在测量对象物上形成有薄膜的情况下，也能够比以往准确地对测量对象物的温度进行测量。其包括以下工序：将来自光源的光传送到在基板上形成有薄膜的测量对象物的测量点；对由基板的表面的反射光构成的第1干涉波、由基板与薄膜之间的界面的反射光、在薄膜的背面的反射光构成的第2干涉波进行测量；计算从第1干涉波到第2干涉波的光路长度；根据第2干涉波的强度计算薄膜的膜厚；根据算出的薄膜的膜厚计算基板的光路长度与算出的光路长度之间的光路差；根据算出的光路差校正算出的从第1干涉波到第2干涉波的光路长度；利用被校正的光路长度计算测量对象物的测量点处的温度。 | ||
| 搜索关键词： | 温度 测量方法 | ||
【主权项】：
一种温度测量方法，其特征在于，该温度测量方法包括以下工序：将来自光源的光传送到在基板上形成有薄膜的测量对象物的测量点；对由上述基板的表面的反射光构成的第1干涉波、由上述基板与上述薄膜之间的界面的反射光、上述薄膜的背面的反射光构成的第2干涉波进行测量；对从上述第1干涉波到上述第2干涉波的光路长度进行计算；根据上述第2干涉波的强度对上述薄膜的膜厚进行计算；根据上述计算出来的上述薄膜的膜厚对上述基板的光路长度与上述计算出来的光路长度之间的光路差进行计算；根据上述计算出来的光路差对上述计算出来的从上述第1干涉波到上述第2干涉波的光路长度进行校正；利用上述被校正的光路长度对上述测量对象物的上述测量点处的温度进行计算。
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