[发明专利]洗净方法及洗净液供给装置有效
申请号: | 201110303742.8 | 申请日: | 2009-10-09 |
公开(公告)号: | CN102360158A | 公开(公告)日: | 2012-02-22 |
发明(设计)人: | 沼波恒夫 | 申请(专利权)人: | 信越化学工业株式会社 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;B08B3/10 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 宋晓宝;郭晓东 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及一种掩模相关基板的洗净方法,当根据纯水来洗净从被硫酸离子污染后的掩模用基板、空白掩模、掩模及这些物品的制造中间体中选择出来的掩模相关基板时,对在该洗净中所使用的纯水预先将溶解气体脱气。本发明还涉及一种洗净液供给装置和一种洗净方法,该方法是将洗净液供给至洗净装置中来洗净被洗净基板,当利用用以除去异物的过滤器来过滤洗净液并将过滤后的洗净液通过供给管供给至洗净装置中来洗净被洗净基板时,至少在将过滤后的洗净液往洗净装置供给之前,先使过滤后的洗净液通过排出管往系统外部排出,之后才将过滤后的洗净液通过供给管供给至洗净装置中。本发明能简便地提高硫酸离子的洗净效率,进而能极度地减少微小异物的发生量。 | ||
搜索关键词: | 洗净 方法 供给 装置 | ||
【主权项】:
一种洗净方法,是将洗净液供给至洗净装置中,来洗净被洗净基板的洗净方法,其特征在于:当利用用以除去异物的过滤器来过滤上述洗净液,并将该过滤后的洗净液,通过供给管而供给至上述洗净装置中来洗净被洗净基板时,至少在将上述过滤后的洗净液往上述洗净装置供给之前,先使上述过滤后的洗净液通过排出管而往系统外部排出,之后,才将上述过滤后的洗净液,通过供给管而供给至上述洗净装置中。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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