[发明专利]芘主链聚合物及含有该聚合物的抗反射硬掩模组合物以及材料层的图案化方法

摘要

提供了芘主链聚合物和含有该芘主链聚合物的抗反射硬掩模组合物以及材料层的图案化方法。所述硬掩模组合物含有有机溶剂、引发剂、和由式C表示的芘主链聚合物，这些在说明书中有描述。本发明的硬掩模组合物可以用于提供以很高的纵横比图案化的多层薄膜，并且可以将良好的图像转移至下层。另外，通过旋转涂覆技术可以很容易地施覆组合物。

主权项

1.一种芘主链的聚合物，该聚合物由式C表示：其中：芘基为未取代的或取代的，m为至少1且小于750，n为至少1且小于750，R₁为亚甲基或包括含非芘芳基的连接基团，R₂为氧或具有1至7个碳的烷氧基，其中烷氧基的氧与氢H或基团G结合，且G为乙烯基或烯丙基。