[发明专利]以ZnO晶体为模型制备金属微纳米阵列电极的方法无效
申请号: | 201110309261.8 | 申请日: | 2011-10-13 |
公开(公告)号: | CN103043597A | 公开(公告)日: | 2013-04-17 |
发明(设计)人: | 刘继锋;孟凡军 | 申请(专利权)人: | 聊城大学 |
主分类号: | B81C1/00 | 分类号: | B81C1/00;C25D9/04;C25D5/54;C25D5/02;G01N27/30 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 252059 山*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明提出了一种以ZnO晶体为模型制备金属微纳米阵列电极的方法,即运用ZnO晶体阵列作为模型,用光刻胶将其淹没,待光刻胶稳固后,溶掉ZnO,在溶掉ZnO后的孔洞中电沉积金属晶体,获得的金属晶体具有ZnO的形貌,即六棱柱状。该方法制得的微阵列电极具有微电极的特征,即传质速度快,易于达到稳定电流,有较高信噪比,时间常数小,溶液电位降比较低,而且比微电极的响应电流大。 | ||
搜索关键词: | zno 晶体 模型 制备 金属 纳米 阵列 电极 方法 | ||
【主权项】:
以ZnO晶体为模型制备金属微纳米阵列电极的方法,其特征是,步骤如下:(1)在基底上电沉积出ZnO晶体微纳米阵列;(2)在ZnO晶体微纳米阵列上甩一层光刻胶,将其覆盖淹没,热处理,使光刻胶稳固,然后浸入到相应光刻胶的去胶液中浸泡,或用等离子体处理,除掉部分光刻胶,使ZnO晶体的顶端露出;(3)用酸或碱浸泡处理,将ZnO晶体除掉,剩下具有规则形状孔洞的光刻胶层粘附在基底上;(4)然后将制得的样品浸入到含有待沉积金属的溶液中,用电沉积的方法沉积金属,金属晶体会在形成的孔洞中生长,但金属晶体的长度不要超过孔洞的长度;(5)最后,用去胶液或等离子体将光刻胶除掉。
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