[发明专利]包含缩醛和缩酮作为溶剂的光刻胶组合物有效
| 申请号： | 201110317143.1 | 申请日： | 2003-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN102520583A | 公开（公告）日： | 2012-06-27 |
| 发明（设计）人： | S·F·瓦纳特;R·R·普拉斯;J·E·奥伯兰德;D·麦肯齐 | 申请（专利权）人： | AZ电子材料日本株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/023;G03F7/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 宓霞 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种光刻胶组合物，其包含：a)至少一种选自线性酚醛清漆树脂和聚羟基苯乙烯的成膜树脂；b)至少一种光活性化合物或光酸产生剂；和c)包含至少一种选自缩醛和缩酮的溶剂的溶剂组合物。还公开了一种包含聚碳酸酯树脂和溶剂组合物的光刻胶组合物，所述溶剂组合物包含至少一种选自缩醛和缩酮的溶剂。还公开了一种用于将光刻胶组合物成像的方法，其包括如下步骤：a)用任何一种前述光刻胶组合物涂覆基材；b)烘烤基材以基本上去除溶剂；c)成像式照射光刻胶膜；和d)用合适的显影剂去除涂覆基材的成像式曝光或未曝光区域。 | ||
| 搜索关键词： | 包含 缩酮 作为 溶剂 光刻 组合 | ||
【主权项】：
一种光刻胶组合物，其包含：a)至少一种选自线性酚醛清漆树脂和聚羟基苯乙烯的成膜树脂；b)至少一种光活性化合物或光酸产生剂；和c)包含至少一种选自缩醛和缩酮的溶剂的溶剂组合物，其中所述光刻胶组合物对100nm至450nm的辐射敏感，并且所述光刻胶组合物能够形成具有光刻胶膜厚度为10‑90μm的光刻胶，并且选自缩醛和缩酮的溶剂的数量为6％至15％，基于光刻胶组合物的总重量。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于AZ电子材料日本株式会社，未经AZ电子材料日本株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201110317143.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种双眼睑成型器
- 下一篇：全自动义齿雕铣机饼料夹持机构
