[发明专利]激光对位设备及激光对位方法在审
申请号: | 201110318271.8 | 申请日: | 2011-10-19 |
公开(公告)号: | CN102394277A | 公开(公告)日: | 2012-03-28 |
发明(设计)人: | 余超平;范继良;刘惠森 | 申请(专利权)人: | 东莞宏威数码机械有限公司 |
主分类号: | H01L51/56 | 分类号: | H01L51/56 |
代理公司: | 广州三环专利代理有限公司 44202 | 代理人: | 张艳美;郝传鑫 |
地址: | 523000 广东省东莞市南城*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种激光对位设备包括激光器组及透明目标靶,透明目标靶上设置有与激光器组中的激光器的数量及排布相对应的靶标,腔体组中的腔体依次排列,位于起始端的腔体形成基准腔体,位于基准腔体之后的腔体形成对位腔体,基准腔体及对位腔体均具有对接连通用的对接部,激光器组设置于基准腔体上的对接部,透明目标靶分布设置于对位腔体上的对接部,激光器组与透明目标靶之间预留有光线通道,调节基准腔体及对位腔体的位置使激光器组中的激光器发射出的激光通过光线通道依次对应穿过透明目标靶的靶标。本发明激光对位设备能够将OLED镀膜生产线中,对镀膜工艺腔体组进行精确对位,此外本发明公开了一种激光对位方法。 | ||
搜索关键词: | 激光 对位 设备 方法 | ||
【主权项】:
一种激光对位设备,用于对OLED镀膜生产线上的若干镀膜工艺用腔体组进行精确对位,其特征在于:所述激光对位设备包括激光器组及透明目标靶,所述激光器组至少包括两个平行设置的激光器,所述透明目标靶上设置有与所述激光器组中的激光器的数量及排布相对应的靶标,所述腔体组中的腔体依次排列,位于起始端的腔体形成基准腔体,位于所述基准腔体之后的腔体形成对位腔体,所述基准腔体及对位腔体均具有对接连通用的对接部,所述激光器组设置于所述基准腔体上的对接部,所述透明目标靶分布设置于所述对位腔体上的对接部,所述激光器组与所述透明目标靶之间预留有光线通道,调节所述基准腔体及对位腔体的位置使所述激光器组中的激光器发射出的激光通过所述光线通道依次对应穿过所述透明目标靶的靶标。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
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