[发明专利]立体结构的磁隧道结的形成方法及形成设备有效
申请号: | 201110319026.9 | 申请日: | 2011-10-19 |
公开(公告)号: | CN103066200A | 公开(公告)日: | 2013-04-24 |
发明(设计)人: | 三重野文健 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | H01L43/12 | 分类号: | H01L43/12;C23C16/455;C23C16/44;C23C16/38;G11C11/02 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 骆苏华 |
地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明实施例提供了一种立体结构的磁隧道结的形成设备,所述形成设备的结构简单,为本发明实施例的立体结构的磁隧道结的形成方法提供了有利条件。本发明实施例的形成方法中,发明人采用固态的第一反应物、固态的第二反应物和气态的第三反应物,利用原子层沉积工艺,形成作为立体结构的磁隧道结中的磁材料层的CoFeB薄膜,形成的CoFeB薄膜的质量好,后续形成的磁存储器的可靠性高。 | ||
搜索关键词: | 立体 结构 隧道 形成 方法 设备 | ||
【主权项】:
一种立体结构的磁隧道结的形成设备,包括用于形成磁材料层的反应腔室,其特征在于,所述反应腔室包括:镀膜室,所述镀膜室一腔室壁上具有至少一个开孔;位于所述镀膜室内的第一加热器,所述第一加热器位于所述开孔位置的正下方;位于所述镀膜室上的第二加热器;位于所述第二加热器表面的第一子反应腔,所述第一子反应腔与所述开孔相连,用于提供固态的第一反应物;位于所述第二加热器表面的第二子反应腔,所述第二子反应腔与所述第一子反应腔相互分立,且与所述开孔相连,用于提供固态的第二反应物。
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