[发明专利]高硅含量金属类零件的表面化学氧化方法无效
| 申请号： | 201110320236.X | 申请日： | 2011-10-20 |
| 公开（公告）号： | CN103060790A | 公开（公告）日： | 2013-04-24 |
| 发明（设计）人： | 李宏;夏兆蓉 | 申请（专利权）人： | 贵州红林机械有限公司 |
| 主分类号： | C23C22/62 | 分类号： | C23C22/62 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 550009 贵州*** | 国省代码： | 贵州;52 |
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| 摘要： | 本发明提供一种高硅含量金属类零件的表面化学氧化方法，将高硅含量金属类零件放入由NaOH和NaNO2的溶液配制的工艺槽中，NaOH的比例为500～800g/L，NaNO2的比例为150～300g/L，在128～134℃温度下处理25～30分钟。经以上方法处理后的高硅含量金属类零件的表面呈红棕色，经硫酸铜试验，其表面的耐蚀性达到20～60秒。 | ||
| 搜索关键词： | 含量 金属 零件 表面 化学 氧化 方法 | ||
【主权项】：
一种高硅含量金属类零件的表面化学氧化方法，其特征在于：将高硅含量金属类零件放入由NaOH和NaNO2的溶液配制的工艺槽中，在128～134℃温度下处理25～30分钟。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C22-00 表面与反应液反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理，例如转化层、金属的钝化
C23C22-02 .使用非水溶液的
C23C22-05 .使用水溶液的
C23C22-70 .使用熔体
C23C22-73 .以工艺为特征的
C23C22-78 .待镀覆材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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