[发明专利]DES的加工工艺无效
| 申请号： | 201110321342.X | 申请日： | 2011-10-21 |
| 公开（公告）号： | CN102365003A | 公开（公告）日： | 2012-02-29 |
| 发明（设计）人： | 张俊 | 申请（专利权）人： | 江苏同昌电路科技有限公司 |
| 主分类号： | H05K3/26 | 分类号： | H05K3/26 |
| 代理公司： | 扬州市锦江专利事务所 32106 | 代理人： | 江平 |
| 地址： | 225200 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | DES的加工工艺，涉及高端电子产品，特别是电路板制生产技术领域。本发明将显影蚀刻去模经两道显影，冲去污水、水洗吹干水分、蚀刻处理、盐酸清洗、洗涤、退膜、去除污水、再水洗，然后以体积百分比浓度为5～7%的硫酸和过硫酸钠40～60g/l组成的混合酸液进行洗涤；再经清洗制成。本发明以硫酸和过硫酸钠形成混合酸液进行酸洗，可以达到既中和氢氧化钠，又可将铜面进行进一步的清洗保证铜面清洁度。 | ||
| 搜索关键词： | des 加工 工艺 | ||
【主权项】：
DES的加工工艺，其特征在于包括以下步骤：1）将显影蚀刻去模经两道显影后，冲去污水；2）采用溢流方式水洗后，吹干水分；3）蚀刻处理；4）以体积百分比浓度为3～5%的盐酸清洗；5）洗涤；6）退膜；7）冲洗去除污水；8）水洗；9）以体积百分比浓度为5～7%的硫酸和过硫酸钠40～60g/l组成的混合酸液进行洗涤；10）清洗。
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