[发明专利]利用等离子的硅烷气体去除装置无效
申请号: | 201110325850.5 | 申请日: | 2011-10-21 |
公开(公告)号: | CN103055671A | 公开(公告)日: | 2013-04-24 |
发明(设计)人: | 严桓燮 | 申请(专利权)人: | 严桓燮 |
主分类号: | B01D53/76 | 分类号: | B01D53/76;B01D53/46 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 杨黎峰;李欣 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明公开了利用等离子的硅烷气体去除装置。本发明一实施例的硅烷气体去除装置,包括:电磁波供应部,振荡产生预设频率的电磁波;放电管,从上述电磁波供应部所供应的上述电磁波及涡流气体产生等离子;涡流气体供应部,向上述放电管供应上述涡流气体;反应炉,通过上述放电管所产生的上述等离子及硅烷气体的反应生成二氧化硅及水;点火部,向上述放电管内供应用以产生上述等离子的初始电子;硅烷气体供应部,位于上述反应炉的上端并向上述反应炉内部的上述等离子供应上述硅烷气体;以及,气体排出部,排出上述反应炉中所生成的上述二氧化硅及水。 | ||
搜索关键词: | 利用 等离子 硅烷 气体 去除 装置 | ||
【主权项】:
一种硅烷气体去除装置,包括:电磁波供应部,振荡产生预设频率的电磁波;放电管,从所述电磁波供应部所供应的所述电磁波及涡流气体产生等离子;涡流气体供应部,向所述放电管供应所述涡流气体;反应炉,通过所述放电管所产生的所述等离子及硅烷气体的反应生成二氧化硅及水;点火部,向所述放电管内供应用以产生所述等离子的初始电子;硅烷气体供应部,位于所述反应炉的上端并向所述反应炉内部的所述等离子供应所述硅烷气体;及气体排出部,排出所述反应炉中所生成的所述二氧化硅及水。
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