[发明专利]腔室装置及具有其的基片处理设备

摘要

本发明提出一种腔室装置，包括腔室本体，腔室本体内限定有腔室；多层托盘，多层托盘沿着竖直方向间隔地设在腔室内，多层托盘通过竖直设置的支撑件固定连接且支撑件可被驱动转动，托盘分别用于承载基片；和扇形进气管路，扇形进气管路设置在腔室内，用于向承载在多层托盘的基片的至少一部分喷射工艺气体。根据本发明的基片处理设备能够有效地缩小托盘的径向温差，保证了温度场的均匀性，从而使基片加热均匀，处理效率高。本发明还提出一种具有上述腔室装置的基片处理设备。

主权项

一种腔室装置，其特征在于，包括：腔室本体，所述腔室本体内限定有腔室；多层托盘，所述多层托盘沿着竖直方向间隔地设在所述腔室内，所述多层托盘通过竖直设置的支撑件固定连接且通过驱动所述支撑件转动带动所述托盘转动，所述多层托盘分别用于承载基片；以及进气管路，所述进气管路位于腔室内且设置在所述多层托盘的一侧，用于向承载在所述多层托盘的基片的至少一部分喷射工艺气体。