[发明专利]光学元件超光滑表面的抛光装置

摘要

本发明公开一种对光学元件超光滑表面抛光的装置，该装置包括剪切射流抛光盘、数控机床、工件装夹平台、浴法射流抛光平台、抛光头控制装置、射流抛光系统和液体管路，通过采用一个剪切射流抛光盘，安装在浴法数控机床上的抛光头上，通过管路与射流抛光系统相连，抛光液从经射流抛光系统的增压系统加速从剪切射流抛光盘射出，在与剪切射流抛光盘下端面紧贴的光学元件表面产生剪切射流，通过射流的剪切作用力实现光学元件的超光滑表面抛光。本发明用于光学玻璃、微晶玻璃、半导体材料及单晶材料的超精密、超光滑抛光。

主权项

一种对光学元件超光滑表面抛光的装置，其特征在于：所述抛光装置包括剪切射流抛光盘(1)、数控机床(2)、工件装夹平台(4)、浴法射流抛光平台(5)、抛光头控制装置(6)、射流抛光系统(7)和液体管路(8)，其中：剪切射流抛光盘(1)通过抛光头控制装置(6)固定在数控机床(2)上，通过液体管路(8)与射流抛光系统(7)连接，浴法射流抛光平台(5)安装在数控机床(2)上，通过液体管路(8)与射流抛光系统(7)连接，用于回收和循环抛光液，工件装夹平台(4)安装在浴法射流抛光平台(5)里，待抛光工件(3)通过工件装夹平台(4)固定在数控机床(2)上；通过射流抛光系统(7)的增压系统对混有磨料粒子的抛光液加速从剪切射流抛光盘(1)射出，在与剪切射流抛光盘下端面紧贴的光学元件表面产生剪切射流，通过射流的剪切作用力，对光学元件的超光滑表面抛光；从设有容器壁的工件装夹平台(4)中溢出抛光液并流到浴法射流抛光平台(5)上；然后经浴法射流抛光平台(5)底部的出水口通过液体管路(8)回收射流抛光系统中，进行抛光液的循环抛光。