[发明专利]使用强制超薄膜旋转式处理法的微粒的制造方法有效
| 申请号： | 201110332896.X | 申请日： | 2008-07-04 |
| 公开（公告）号： | CN102516809A | 公开（公告）日： | 2012-06-27 |
| 发明（设计）人： | 榎村真一 | 申请（专利权）人： | M技术株式会社 |
| 主分类号： | C09B67/00 | 分类号： | C09B67/00;B01F7/00;B01J19/18 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 贾成功 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种微粒的制造方法，其特征在于，通过在可接近·分离地相对地进行旋转的2个处理用面之间维持1mm以下的微小间隙、将以该微小间隔维持的2个处理用面之间作为被处理流动体的流路，形成被处理流动体的强制薄膜，在该强制薄膜中进行微粒的析出。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 强制 薄膜 旋转 处理 微粒 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种微粒的制造方法，其特征在于，通过在可接近·分离地相对旋转的2个处理用面间维持1mm以下的微小间隔、将以该微小间隔维持的2个处理用面间作为被处理流动体的流路，形成被处理流动体的强制薄膜，在该强制薄膜中进行微粒的析出。
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