[发明专利]一种人工种植石斛的低成本高产栽培方法有效
申请号: | 201110336892.9 | 申请日: | 2011-10-31 |
公开(公告)号: | CN102498860A | 公开(公告)日: | 2012-06-20 |
发明(设计)人: | 余千松 | 申请(专利权)人: | 勐腊千松石斛种植有限责任公司 |
主分类号: | A01G1/00 | 分类号: | A01G1/00 |
代理公司: | 昆明知道专利事务所(特殊普通合伙企业) 53116 | 代理人: | 姜开侠;朱智华 |
地址: | 666300 云南省西*** | 国省代码: | 云南;53 |
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摘要: | 本发明提供了一种人工种植石斛的低成本高产栽培方法,包括种植环境营造、种植畦设置、种植畦整理、石斛苗栽植,具体为:建造可人工影响栽培环境的全封闭遮阴大棚,在棚内设置管理路梗和灌溉排水沟;在全封闭遮阴大棚内平行设置种植畦,相邻种植畦之间设置畦沟,畦沟连通灌溉排水沟;畦面做平整,并铺设垫板作为栽培苗床垫层,上面铺设边皮板,边皮板上铺一层遮阴网,在遮阴网上铺设栽培基质;在整理好的种植畦上按10×10cm的株距依次将石斛成苗或组培苗栽培在苗床上,并按常规生产流程进行生产管理。本发明采用特殊结构的种植畦,用石棉瓦将栽培基质和土层分开,取得了突出的技术效果,更加符合石斛对栽培条件的要求,提高了石斛的产量。 | ||
搜索关键词: | 一种 人工 种植 石斛 低成本 高产 栽培 方法 | ||
【主权项】:
一种人工种植石斛的低成本高产栽培方法,其特征在于包括种植环境营造、种植畦设置、种植畦整理、石斛苗栽植,具体为下列步骤:A、种植环境营造:建造可人工影响栽培环境的全封闭遮阴大棚(1),在棚内设置管理路梗和灌溉排水沟(4);B、种植畦设置:在全封闭遮阴大棚(1)内平行设置种植畦(2),相邻种植畦(2)之间设置畦沟(3),畦沟(3)连通灌溉排水沟(4);C、种植畦整理:畦面做平整,并铺设垫板(5)作为栽培苗床垫层,上面铺设边皮板(6),边皮板(6)上铺一层遮阴网(7),在遮阴网(7)上铺设栽培基质(8);D、石斛苗栽植:在整理好的种植畦(2)上按10×10cm的株距依次将石斛成苗或组培苗栽培在苗床上,并按常规生产流程进行生产管理。
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