[发明专利]用于光刻系统的对准装置有效
| 申请号： | 201110338363.2 | 申请日： | 2011-11-01 |
| 公开（公告）号： | CN103092011A | 公开（公告）日： | 2013-05-08 |
| 发明（设计）人： | 吴旭婷;徐荣伟;杜聚友;王诗华;蓝科 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开一种用于光刻系统的对准装置，包括：照明模块，用于提供照射对准标记的光束；光学装置，对对准标记各级次的衍射光进行光学处理；探测模块，用于探测干涉像；其中光学装置包括一偏转模块，偏转模块使各级次衍射光分别形成干涉像。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 系统 对准 装置 | ||
【主权项】：
一种用于光刻系统的对准装置，包括：照明模块，用于提供照射对准标记的光束；光学装置，对对准标记各级次的衍射光进行光学处理；探测模块，用于探测干涉像；其特征在于，所述光学装置包括一偏转模块，所述偏转模块使所述各级次衍射光分别形成干涉像。
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