[发明专利]处理盒及其余量检测方法和成像装置及其控制方法无效
| 申请号： | 201110338795.3 | 申请日： | 2011-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN103092046A | 公开（公告）日： | 2013-05-08 |
| 发明（设计）人： | 刘卫臣 | 申请（专利权）人： | 珠海艾派克微电子有限公司 |
| 主分类号： | G03G21/18 | 分类号： | G03G21/18;G03G15/00;G01F23/26 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 刘芳 |
| 地址： | 519075 广东省珠*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供一种处理盒及其余量检测方法和成像装置及其控制方法。该处理盒包括处理盒壳体，壳体内至少容置有显影辊和出粉刀，且处理盒壳体内形成有显影剂容纳室和显影室，其中：出粉刀的第一导体和显影辊的第二导体之间形成余量检测电容，第一导体和第二导体分别与检测引脚和电压引脚相连，用于测定余量检测电容的变化。本发明通过采用出粉刀和显影辊的导体作为余量检测电容的两极，利用已有出粉刀与显影辊距离最为接近，且距离控制严格的特点，使得检测成本降低、受已有空间的限制小，并且精度较高的距离使得余量检测电容更加稳定，不会出现突变的电容变化，因此优化了成像装置的显影剂余量检测方案。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 及其 余量 检测 方法 成像 装置 控制 | ||
【主权项】：
一种处理盒，包括处理盒壳体，所述处理盒壳体内至少容置有显影辊和出粉刀，且所述处理盒壳体内形成有显影剂容纳室和显影室，所述显影辊位于显影室中，其特征在于：所述出粉刀的第一导体和所述显影辊的第二导体之间形成余量检测电容，所述第一导体和第二导体分别与检测引脚和电压引脚相连，用于测定余量检测电容的变化。
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