[发明专利]一种点接触背面场异质结太阳电池及其制造方法无效
申请号: | 201110341022.0 | 申请日: | 2011-11-02 |
公开(公告)号: | CN102368507A | 公开(公告)日: | 2012-03-07 |
发明(设计)人: | 张群芳 | 申请(专利权)人: | 北京汇天能光电技术有限公司 |
主分类号: | H01L31/0747 | 分类号: | H01L31/0747;H01L31/0224;H01L31/0352;H01L31/20 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100176 北京市经*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种点接触背面场异质结太阳电池及其制造方法,其特征在于:采用N型硅片作为衬底,硅衬底背表面依次沉积n/i硅薄膜、导电薄膜、绝缘薄膜和金属层,金属电极与导电薄膜层通过绝缘薄膜层的接触孔形成点接触;硅衬底正表面沉积p/i硅薄膜层,在p型层表面有透明导电薄膜及在其上设置的金属电极。本发明硅衬底的背表面采用绝缘薄膜层将金属与导电薄膜隔开,金属背电极与导电薄膜通过绝缘薄膜层的接触孔形成局部性接触,将金属半导体面接触改为点接触,可降低金属半导体接触的势垒损失,金属面电极有较低的电阻,金属层还能将未被吸收的光线反射进入硅片再次吸收,可提高电池转换效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 点接触 背面 场异质结 太阳电池 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种点接触背面场异质结太阳电池,其特征在于:采用N型硅片作为衬底,硅衬底背表面依次沉积n/i硅薄膜、导电薄膜、绝缘薄膜和金属层;所述绝缘薄膜层有接触孔,所述金属电极与导电薄膜层通过接触孔形成点接触;所述硅衬底正表面沉积p/i硅薄膜层,在p型层表面有透明导电薄膜及在其上设置的金属电极。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的