[发明专利]人脸过曝的影像处理方法及其影像撷取装置无效
| 申请号： | 201110347796.4 | 申请日： | 2011-11-07 |
| 公开（公告）号： | CN103095979A | 公开（公告）日： | 2013-05-08 |
| 发明（设计）人： | 李运锦 | 申请（专利权）人： | 华晶科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H04N5/232 | 分类号： | H04N5/232;H04N5/243;G06T5/00 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 臧建明 |
| 地址： | 中国台湾新*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种人脸过曝的影像处理方法及其影像撷取装置。影像处理方法包括下列步骤。首先，撷取一待处理影像，并针对此待处理影像进行人脸检测程序，藉以定义出包括一或多个人脸的一人脸区域。接着，分析待处理影像中的人脸区域内的亮暗分布，并判断人脸区域内是否存在过曝区域。若是，对待处理影像进行数字影像处理藉以模拟出第一曝光影像与第二曝光影像。利用在第一曝光影像中与过曝区域相对应的区域与第二曝光影像进行影像混合，藉以产生一处理后影像。本发明可直接于一般消费型相机中实现上述改善人脸局部过曝现象的功能。 | ||
| 搜索关键词： | 影像 处理 方法 及其 撷取 装置 | ||
【主权项】：
一种人脸过曝的影像处理方法，适用于一影像撷取装置，包括：撷取一待处理影像，并针对该待处理影像进行一人脸检测程序，藉以定义出包括至少一人脸的一人脸区域；分析该人脸区域内的影像亮暗分布，并判断该人脸区域内是否存在一过曝区域；若是，对该待处理影像进行数字影像处理藉以模拟出一第一曝光影像与一第二曝光影像；以及利用在该第一曝光影像中与该过曝区域相对应的区域与该第二曝光影像进行影像混合，藉以产生一处理后影像。
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