[发明专利]一种盘旋式金属间电容结构及其布局无效
申请号: | 201110349901.8 | 申请日: | 2011-11-08 |
公开(公告)号: | CN102446896A | 公开(公告)日: | 2012-05-09 |
发明(设计)人: | 张海芳;娄晓琪 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | H01L23/522 | 分类号: | H01L23/522 |
代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人: | 王敏杰 |
地址: | 201210 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供了一种交叉盘旋式金属电容结构及布局,金属层内的电极为平面螺旋结构,第一电极与第二电极呈中心对称排布。本发明金属层间电容结构的设计方案,还能够使电容具有螺旋式电感特性。 | ||
搜索关键词: | 一种 盘旋 金属 电容 结构 及其 布局 | ||
【主权项】:
一种盘旋式金属电容结构,其特征在于,包括至少一个金属层,金属层内包括第一电极和第二电极,第一电极与第二电极形状相同并均呈平面螺旋结构;所述第一电极与第二电极中心对称排布;所述第一电极和第二电极之间填充有绝缘介电材料。
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