[发明专利]在低压力下进行等离子体感应涂覆的方法和设备有效

专利信息
申请号: 201110349945.0 申请日: 2011-11-08
公开(公告)号: CN102477535A 公开(公告)日: 2012-05-30
发明(设计)人: M·奥尔加德 申请(专利权)人: 奥迪康有限公司
主分类号: C23C14/12 分类号: C23C14/12;C23C14/32
代理公司: 北京金阙华进专利事务所(普通合伙) 11224 代理人: 陈建春
地址: 丹麦斯*** 国省代码: 丹麦;DK
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摘要: 发明公开了一种在低压力下进行等离子体感应涂覆的方法和设备。所述方法包括步骤:提供具有表面的衬底;将包括1H,1H,2H,2H-全氟癸基丙烯酸酯的化合物蒸发到惰性气体流内;在蒸发到所述气体流内期间保持所述化合物恒温;将所述表面暴露给气体和化合物的混合物;将所述表面暴露给气体和化合物的混合物中产生的连续波等离子体,具有等离子体电路提供的等离子体功率。本发明具有涂覆效率高、涂层均匀的优点。
搜索关键词: 压力 进行 等离子体 感应 方法 设备
【主权项】:
在低压力下等离子体涂覆憎水和憎油聚合层的方法,所述方法包括步骤:‑提供具有表面的衬底;‑将包括1H,1H,2H,2H‑全氟癸基丙烯酸酯的化合物蒸发到惰性气体流内;‑在蒸发到所述气体流内期间保持所述化合物恒温;‑将所述表面暴露给气体和化合物的混合物;‑将所述表面暴露给气体和化合物的混合物中产生的连续波等离子体,具有等离子体电路提供的等离子体功率。
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