[发明专利]高填充系数的CMOS图像传感器像素单元及其工作方法有效

专利信息
申请号: 201110354390.9 申请日: 2011-11-10
公开(公告)号: CN102420946A 公开(公告)日: 2012-04-18
发明(设计)人: 何进;苏艳梅;张东维 申请(专利权)人: 深港产学研基地
主分类号: H04N5/374 分类号: H04N5/374;H04N5/3745;H04N5/378
代理公司: 深圳市惠邦知识产权代理事务所 44271 代理人: 满群
地址: 518057 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种高填充系数的CMOS图像传感器像素单元及其工作方法,其中像素单元包括仅一个P+端电连接控制信号的P+/N-Well/P-sub结构的二极管(N1)和仅一个射极连接读出总线的源极跟随晶体管(M1);对应像素阵列工作方法包括:清零:运作时,对全体像素单元施加一个负电压,清除内部节点电荷;重置:在指定像素列施加高的正电压,以激活N1为节点充电;读出:将控制信号置零,在一个固定光照集成时间后,光感信号将通过M1被读出;置零:在读出操作后,施加高负电压的控制信号,使M1失效,并通过N1的结电容将感应节点电荷释放至零;截止:将控制信号置零,这将使像素单元输出被截断,直至下一个重置。
搜索关键词: 填充 系数 cmos 图像传感器 像素 单元 及其 工作 方法
【主权项】:
一种高填充系数的CMOS图像传感器像素单元,电连接偏置电压(Vdd1)、偏置电流(I1)和控制信号(φ1),其特征在于,包括:仅一个P+/N‑Well/P‑sub结构的二极管(N1),P+端电连接所述控制信号,用于清零、重置、置零和截止;仅一个源极跟随晶体管(M1),基极电连接所述P+/N‑Well/P‑sub结构的二极管(N1),射极通过读出总线电连接所述偏置电流(I1),集电极电连接所述偏置电压(Vdd1),用于读出光感信号。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深港产学研基地,未经深港产学研基地许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110354390.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top