[发明专利]一种具有热均匀性的热处理方法无效
申请号: | 201110355109.3 | 申请日: | 2011-11-10 |
公开(公告)号: | CN102393601A | 公开(公告)日: | 2012-03-28 |
发明(设计)人: | 宋剑 | 申请(专利权)人: | 宋剑 |
主分类号: | G03F7/00 | 分类号: | G03F7/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 221000 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种具有热均匀性的热处理方法,属于热处理技术领域,具体步骤是:(1)基板表面疏水处理;(2)光阻旋转涂布至半导体基板表面;(3)预先烘烤;(4)冷却至室温;(5)远紫外线辐射照射曝光;(6)曝光后烘烤;(7)冷却至室温;(8)显影;(9)烘烤;有益效果是温度均匀,可进行长时间运行。 | ||
搜索关键词: | 一种 具有 均匀 热处理 方法 | ||
【主权项】:
一种具有热均匀性的热处理方法,借由热空气流动使加热过程均匀化,且调节排气的流量,控制排出该处理室内的气体流量,形成具有热均匀性的热处理装置,其特征在于所述的处理方法具体步骤是:(1)基板表面疏水处理;(2)光阻旋转涂布至半导体基板表面;(3)预先烘烤;(4)冷却至室温;(5)远紫外线辐射照射曝光;(6)曝光后烘烤;(7)冷却至室温;(8)显影;(9)烘烤。
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