[发明专利]圆柱磁控溅射阴极有效
| 申请号： | 201110365094.9 | 申请日： | 2011-11-17 |
| 公开（公告）号： | CN103114272B | 公开（公告）日： | 2017-03-29 |
| 发明（设计）人： | 王良源 | 申请（专利权）人： | 王良源 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京同辉知识产权代理事务所(普通合伙)11357 | 代理人： | 魏忠晖 |
| 地址： | 325025 浙江省温州市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种圆柱磁控溅射阴极，其包括靶材、磁靴、至少一磁体装置及至少一安装座，所述磁靴装设在所述靶材的内部，所述安装座可拆卸地设置在所述磁靴上，所述安装座用以可拆卸地固定所述磁体装置；所述磁体装置包括二第一磁体及一第二磁体；所述安装座包括二第一平台及一第二平台，所述第一平台对称设置在所述第二平台的两侧，所述第一平台与第二平台之间的相对高度可改变，每一第一磁体可拆卸地安装在一第一平台上，每一第二磁体可拆卸地安装在一第二平台上。本发明圆柱磁控溅射阴极，可通过改变安装座的第一平台与第二平台之间的相对高度或通过更换安装座，以满足镀膜过程中不同的沉积速率及均匀程度的需求。 | ||
| 搜索关键词： | 圆柱 磁控溅射 阴极 | ||
【主权项】：
一种圆柱磁控溅射阴极，其包括靶材、磁靴及至少一磁体装置，所述磁靴装设在所述靶材的内部，所述磁体装置包括二第一磁体及一第二磁体，其特征在于：所述圆柱磁控溅射阴极还包括至少一安装座，所述安装座可拆卸地设置在所述磁靴上，所述安装座用以可拆卸地固定所述磁体装置；所述安装座包括二第一平台及一第二平台，所述第一平台对称设置在所述第二平台的两侧，所述第一平台与第二平台之间的相对高度可改变，每一第一磁体可拆卸地安装在一第一平台上，每一第二磁体可拆卸地安装在一第二平台上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于王良源，未经王良源许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201110365094.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：形状找位盒
- 下一篇：具有摩擦补偿及失速保护的离心摩擦式缓降器
- 同类专利
- 专利分类
