[发明专利]H掺FZO透明导电薄膜及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201110366711.7 申请日: 2011-11-18
公开(公告)号: CN102426876A 公开(公告)日: 2012-04-25
发明(设计)人: 朱丽萍 申请(专利权)人: 安徽康蓝光电股份有限公司
主分类号: H01B5/14 分类号: H01B5/14;H01B13/00;C23C14/08;C23C14/40
代理公司: 安徽合肥华信知识产权代理有限公司 34112 代理人: 方峥
地址: 241000 安徽省*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开了一种H掺FZO透明导电薄膜及其制备方法,在衬底上生长一层H掺FZO薄膜层。其制备是采用射频磁控溅射法。本发明方法所用设备简单,可控性强,制备出来的薄膜光学性能和电学性能优良,重复性好。
搜索关键词: fzo 透明 导电 薄膜 及其 制备 方法
【主权项】:
H掺FZO透明导电薄膜,其特征在于:具有一衬底,衬底上具有一层H掺FZO薄膜层。
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