[发明专利]图形化衬底工艺用步进光刻掩膜版数据拼接方法和修正法

摘要

本发明是图形化衬底制造工艺用步进光刻掩膜版的数据拼接方法及修正方法，包括如下工艺：确定光刻掩膜版上小圆的尺寸和间隔尺寸；确定小圆正三角形排列之正三角形边长，设边长为a；作出以1/2a为内切圆半径的正六边形，并将该正六边形外扩；在该正六边形内作需要的小圆，并将二者做逻辑减法运算；按正三角形排列方式，在坐标X方向移动1/2a，Y方向移动a*sin600，形成双正六边形组图，重复分布上述双正六边形组图，步进为：a，2a*sin600，得到需要的窗口图形如摘要附图；将以上得到的窗口图形进行居中处理；加上相应型号的步进光刻机的套刻标志。优点：重复分布后得到的曝光窗口界面为规则的齿轮状或锯齿状，从而有效避免了在圆上的拼接方式，极大地改善了光学边缘效应，同时降低了光刻版制造的精度要求。

主权项

图形化衬底制造工艺用步进光刻掩膜版的数据拼接方法及修正方法，该方法包括如下工艺：一、确定光刻掩膜版上小圆的尺寸和间隔尺寸；确定小圆正三角形排列之正三角形边长，设边长为a；二、作出以1/2a为内切圆半径的正六边形，并将该正六边形外扩，如外扩0.4微米；在该正六边形内作需要的小圆，并将二者做逻辑减法运算；三、按正三角形排列方式，在坐标X方向移动1/2a，Y方向移动a * sin600，形成双正六边形组图，即单胞图形，重复分布上述双正六边形组图，步进为：a，2a *sin600，得到需要的窗口图形；四、将以上得到的窗口图形进行居中处理；五、加上相应型号的步进光刻机的套刻标志。