[发明专利]一种适宜高寒山区种植作物的W型覆膜栽培结构无效
申请号: | 201110368495.X | 申请日: | 2011-11-20 |
公开(公告)号: | CN103120106A | 公开(公告)日: | 2013-05-29 |
发明(设计)人: | 孙秀芝;吕风林 | 申请(专利权)人: | 孙秀芝 |
主分类号: | A01G13/02 | 分类号: | A01G13/02;A01G1/00 |
代理公司: | 太原晋科知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 14110 | 代理人: | 郑晋周 |
地址: | 035700 山西省晋中*** | 国省代码: | 山西;14 |
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摘要: | 本发明公开了一种适宜高寒山区种植作物的地膜覆盖栽培方法,包括轮作与整地、合理沟施肥料、W形地膜覆盖、选用良种与种子处理、适期播种与播种方式和田间管理。本发明以W形地膜覆盖技术为核心,覆膜较播种提前了8-12天,到播种时的膜下5cm的温度较先播种后覆膜的现有技术平均提高了1.7-2.0℃,膜下0-10cm的含水量提高了6.1-8.8个百分点起到了增温、保墒的作用。W形地膜覆盖在地膜平面上出现的播种穴,覆膜后只要有降雨,每个播种穴可积流1-2平方尺的降水,使无效降雨变成有效降水,起到了积流增墒的作用。配套其它栽培措施,其增产增收效果十分显著,经多年的试验表明,本发明较现有技术增产幅度在11.3%-21.4%。 | ||
搜索关键词: | 一种 适宜 高寒 山区 种植 作物 型覆膜 栽培 结构 | ||
【主权项】:
一种适宜高寒山区种植作物的W型覆膜栽培结构,包括透明膜(1)覆盖的地垄,其特征在于所述地垄的横截面是由垄沟(4)与垄背(3)相间构成的W型结构,所述垄沟(4)深度为5‑10cm,两垄沟中心间距为35‑40cm。
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