[发明专利]用于多晶硅锭制备的组合坩埚无效
申请号: | 201110370450.6 | 申请日: | 2011-11-21 |
公开(公告)号: | CN103122479A | 公开(公告)日: | 2013-05-29 |
发明(设计)人: | 李川川 | 申请(专利权)人: | 常州市万阳光伏有限公司 |
主分类号: | C30B28/06 | 分类号: | C30B28/06;C30B29/06 |
代理公司: | 苏州广正知识产权代理有限公司 32234 | 代理人: | 张利强 |
地址: | 213115 江苏省常州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种用于多晶硅锭制备的组合坩埚,包括:石英坩埚和设置在石英坩埚外侧的石墨坩埚,所述石英坩埚包括石英坩埚基体、中间过渡层、第二中间层和内表面涂层,所述石英坩埚基体内壁设置有中间过渡层,所述中间过渡层上设有第二中间层,所述第二中间层上设有内表面涂层,所述石墨坩埚包括底板和设置在底板四周的侧板,所述底板具有网状结构。通过上述方式,本发明中石英坩埚内表面采用复合涂层,增强了涂层附着力,提高了石英坩埚抗高温能力,能够降低涂层材料成本,还能够确保在硅液从石英坩埚任何裂缝处溢出时,都能够及时引导硅液的流向,即引导硅液从底板的网络状结构的空隙处流下,从而能够及时报警。 | ||
搜索关键词: | 用于 多晶 制备 组合 坩埚 | ||
【主权项】:
一种用于多晶硅锭制备的组合坩埚,其特征在于,包括:石英坩埚和设置在石英坩埚外侧的石墨坩埚,所述石英坩埚包括石英坩埚基体、中间过渡层、第二中间层和内表面涂层,所述石英坩埚基体内壁设置有中间过渡层,所述中间过渡层上设有第二中间层,所述第二中间层上设有内表面涂层,所述石墨坩埚包括底板和设置在底板四周的侧板,所述底板具有网状结构。
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