[发明专利]检测待测物的缺陷深度的系统及方法无效
申请号: | 201110373349.6 | 申请日: | 2011-11-22 |
公开(公告)号: | CN103134822A | 公开(公告)日: | 2013-06-05 |
发明(设计)人: | 吴金来;郑加传;彭朋畿;姬俊宇 | 申请(专利权)人: | 全友电脑股份有限公司 |
主分类号: | G01N23/04 | 分类号: | G01N23/04;G01B15/00 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 任默闻 |
地址: | 中国台湾新竹*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 一种检测待测物的缺陷深度的系统及方法,该系统包含一第一放射源、一第二放射源、一显像元件以及一计算单元。第一放射源以及第二放射源设置于一待测物的一第一表面侧,用以分别提供一第一放射线以及一第二放射线。显像元件设置于待测物的一第二表面侧的一平面,用以分别接收透射过待测物的第一放射线以及第二放射线,以显现待测物中的一缺陷于显像元件上的一第一缺陷位置以及一第二缺陷位置。计算单元利用相似三角形关系计算出待测物中的缺陷至平面间的一距离。本发明将待测物的内部缺陷通过不同位置的放射源投影至同一平面上,不仅可得知待测物内部缺陷的平面位置,且可通过多个相似三角形关系计算得到待测物内部缺陷的深度信息。 | ||
搜索关键词: | 检测 待测物 缺陷 深度 系统 方法 | ||
【主权项】:
一种检测待测物的缺陷深度的系统,其特征在于,所述的检测待测物的缺陷深度的系统包含:一第一放射源,其设置于一待测物的一第一表面侧,用以提供一第一放射线;一第二放射源,其设置于所述待测物的所述第一表面侧,用以提供一第二放射线,其中所述第一放射源以及所述第二放射源设置于所述待测物的所述第一表面侧的位置相异;一显像元件,其设置于所述待测物的一第二表面侧的一平面,所述第一表面以及所述第二表面彼此相对,所述显像元件用以分别接收透射过所述待测物的所述第一放射线以及所述第二放射线,以显现所述待测物中的一缺陷于所述显像元件上的一第一缺陷位置以及一第二缺陷位置;以及一计算单元,其以所述第一放射源的位置、所述第一放射源垂直投影至所述平面的一第一投影位置、所述第二放射源的位置、所述第二放射源垂直投影至所述平面的一第二投影位置、所述缺陷的位置、所述缺陷垂直投影至所述平面的一缺陷投影位置、所述第一缺陷位置以及所述第二缺陷位置所形成的多个三角形,利用相似三角形关系计算出所述待测物中的所述缺陷至所述平面间的一距离。
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