[发明专利]防止反溅射物质剥落的靶材及膜层的形成方法无效

专利信息
申请号: 201110374219.4 申请日: 2011-11-22
公开(公告)号: CN102383100A 公开(公告)日: 2012-03-21
发明(设计)人: 姚力军;相原俊夫;大岩一彦;潘杰;王学泽;郑文翔 申请(专利权)人: 宁波江丰电子材料有限公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34;C23C14/14
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 骆苏华
地址: 315400 浙江省宁波市余姚*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 一种防止反溅射物质剥落的靶材和利用此靶材形成膜层的方法,所述靶材的边缘具有滚花区。本发明通过对靶材边缘进行滚花处理,增加其粗糙度,从而增加了反溅射物质在靶材上的粘附力,大大的减少了反溅射物质剥落的情况。并且实施简单,对现有的设备和技术不需要做任何改动,就可以达到良好的效果。
搜索关键词: 防止 溅射 物质 剥落 形成 方法
【主权项】:
一种防止反溅射物质剥落的靶材,其特征在于,所述靶材的待溅射表面的边缘处具有滚花区。
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