[发明专利]匀胶清洗装置及匀胶清洗方法有效
| 申请号： | 201110378938.3 | 申请日： | 2011-11-24 |
| 公开（公告）号： | CN102489464A | 公开（公告）日： | 2012-06-13 |
| 发明（设计）人： | 王友旺;林盛浩;裴新;胡华 | 申请（专利权）人： | 深圳深爱半导体股份有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/02 | 分类号： | B08B3/02;B05C11/00 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 吴平 |
| 地址： | 518118 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种匀胶清洗装置，包括清洗系统，所述清洗系统包括用于盛放清洗液的液罐、控制开关组件、喷头以及将三者连接的水管，所述喷头用于对准硅片的背面、喷射清洗液对硅片背面进行清洗。本发明还涉及一种匀胶清洗方法。本发明通过喷射清洗液对硅片背面进行清洗，可以将甩胶时被甩到硅片背面的光刻胶清洗掉，消除硅片背面的沾污，从而提高良品率。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种匀胶清洗装置，包括清洗系统，所述清洗系统包括用于盛放清洗液的液罐、控制开关组件、喷头以及将三者连接的水管，其特征在于，所述喷头用于对准硅片的背面、喷射清洗液对硅片背面进行清洗。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳深爱半导体股份有限公司，未经深圳深爱半导体股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201110378938.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
