[发明专利]控制器、光刻设备、控制物体位置的方法及器件制造方法有效

专利信息
申请号: 201110380824.2 申请日: 2011-11-22
公开(公告)号: CN102540756A 公开(公告)日: 2012-07-04
发明(设计)人: R·I·卡米迪;H·巴特勒;M·霍凯斯;M·M·J·范德沃尔;J·J·M·范德维基德翁 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 吴敬莲
地址: 荷兰维*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 发明公开了一种控制器、一种光刻设备、一种控制物体的位置的方法以及一种器件制造方法。所述控制器配置成用于控制具有布置用以作用在物体上的多个致动器的致动器系统。控制器使用增益平衡矩阵将表示想要施加至物体的重心的一组力的第一控制信号转换成表示通过所述多个致动器施加的等价的一组力的第二控制信号。系统还配置成使得第一增益平衡矩阵用在第一频带,并且第二增益平衡矩阵用在第二频带。
搜索关键词: 控制器 光刻 设备 控制 物体 位置 方法 器件 制造
【主权项】:
一种控制器,配置成控制用以控制定位装置内的物体的位置的致动器系统,其中所述致动器系统包括布置用以作用在所述物体上的多个致动器;其中所述控制器包括处理器,所述处理器配置成使用增益平衡矩阵以将表示期望施加至物体的重心的一组力的第一控制信号转换成表示通过所述多个致动器提供的等价的一组力的第二控制信号;和所述处理器配置成使得至少在第一控制信号处于第一频带内时使用第一增益平衡矩阵,并且至少在第一控制信号处于第二频带内时使用第二增益平衡矩阵。
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