[发明专利]Mo系溅射靶板及其制造方法无效
| 申请号： | 201110383367.2 | 申请日： | 2008-01-11 |
| 公开（公告）号： | CN102505109A | 公开（公告）日： | 2012-06-20 |
| 发明（设计）人： | 稻熊彻;坂本广明;大石忠美;泉真吾;中村元 | 申请（专利权）人： | 新日铁高新材料 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C22C27/04;C22F1/18 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 周欣;陈建全 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明通过对微量元素的含量条件和轧制条件进行组合，使变形抗力降低，进而抑制边部断裂等龟裂的发生，由此提供能以高成品率且高效地制造具有大面积的Mo系靶板。本发明的Mo系溅射靶板的制造方法是将Mo系锭进行轧制而制造溅射靶的制造方法，其特征在于，由将所含的氧浓度控制在10质量ppm～1000质量ppm来制造Mo系锭的工序、将该Mo系锭加热并在600℃～950℃的轧制温度下进行轧制的工序构成。 | ||
| 搜索关键词： | mo 溅射 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种Mo系溅射靶板，其特征在于，含氧浓度为10质量ppm～1000质量ppm，平均晶体粒径超过10μm且为50μm以下，溅射面的算术平均波度Wa为0.1μm～2.0μm。
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