[发明专利]Mo系溅射靶板及其制造方法无效

专利信息
申请号: 201110383367.2 申请日: 2008-01-11
公开(公告)号: CN102505109A 公开(公告)日: 2012-06-20
发明(设计)人: 稻熊彻;坂本广明;大石忠美;泉真吾;中村元 申请(专利权)人: 新日铁高新材料
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34;C22C27/04;C22F1/18
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 周欣;陈建全
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明通过对微量元素的含量条件和轧制条件进行组合,使变形抗力降低,进而抑制边部断裂等龟裂的发生,由此提供能以高成品率且高效地制造具有大面积的Mo系靶板。本发明的Mo系溅射靶板的制造方法是将Mo系锭进行轧制而制造溅射靶的制造方法,其特征在于,由将所含的氧浓度控制在10质量ppm~1000质量ppm来制造Mo系锭的工序、将该Mo系锭加热并在600℃~950℃的轧制温度下进行轧制的工序构成。
搜索关键词: mo 溅射 及其 制造 方法
【主权项】:
一种Mo系溅射靶板,其特征在于,含氧浓度为10质量ppm~1000质量ppm,平均晶体粒径超过10μm且为50μm以下,溅射面的算术平均波度Wa为0.1μm~2.0μm。
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