[发明专利]用于印刷电路板的底片制作方法和装置无效
申请号: | 201110388844.4 | 申请日: | 2011-11-29 |
公开(公告)号: | CN103135335A | 公开(公告)日: | 2013-06-05 |
发明(设计)人: | 周敏;张亮;刘艳 | 申请(专利权)人: | 北大方正集团有限公司;珠海方正印刷电路板发展有限公司 |
主分类号: | G03F1/70 | 分类号: | G03F1/70;G06F3/0481 |
代理公司: | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人: | 王达佐 |
地址: | 100871 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供了一种用于印刷电路板的底片制作方法和装置,该方法包括:在编辑界面中呈现包括底片参数的控件;通过控件接受对底片参数的选择或输入;按照接受的底片参数绘制用于印刷电路板的底片。本发明还提供了一种用于印刷电路板的底片制作装置。本发明通过呈现的控件,接受对底片参数的选择或输入。通过在正确范围内接受的参数选项,可调整底片的各项参数,从而提高采用该底片蚀刻的电路板的质量。由于各项参数均属于正确范围内的参数,不会出现底片报废的情况。对于通过控件输入的参数,可设置防呆窗口,防止出现输入的错误参数。这些参数的设置,符合底片上绘制的图形要求,可满足后续在电路板上的曝光要求。 | ||
搜索关键词: | 用于 印刷 电路板 底片 制作方法 装置 | ||
【主权项】:
一种用于印刷电路板的底片制作方法,其特征在于,包括:在编辑界面中呈现包括底片参数的控件;通过所述控件接受对所述底片参数的选择或输入;按照所述接受的底片参数绘制用于印刷电路板的底片。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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