[发明专利]存储器件、存储器阵列及其制造方法无效

专利信息
申请号: 201110393972.8 申请日: 2011-12-01
公开(公告)号: CN103137861A 公开(公告)日: 2013-06-05
发明(设计)人: 康晋锋;于洪宇;高滨 申请(专利权)人: 北京大学
主分类号: H01L45/00 分类号: H01L45/00;H01L27/24;G11C13/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 王波波
地址: 100871*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本申请公开了一种存储器件、存储器阵列及其制造方法,其中,该存储器件包括:由n型半导体材料组成的下电极层;位于下电极层上的阻变材料层;以及位于阻变材料层上的由金属材料组成的上电极层。该存储器件是自整流的可变电阻,可应用于交差阵列存储电路结构,并且适于按比例尺寸缩小,从而可以提高存储器的存储密度。
搜索关键词: 存储 器件 存储器 阵列 及其 制造 方法
【主权项】:
一种存储器件,包括:由n型半导体材料组成的下电极层;位于下电极层上的阻变材料层;以及位于阻变材料层上的由金属材料组成的上电极层。
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