[发明专利]存储器件、存储器阵列及其制造方法无效
申请号: | 201110393972.8 | 申请日: | 2011-12-01 |
公开(公告)号: | CN103137861A | 公开(公告)日: | 2013-06-05 |
发明(设计)人: | 康晋锋;于洪宇;高滨 | 申请(专利权)人: | 北京大学 |
主分类号: | H01L45/00 | 分类号: | H01L45/00;H01L27/24;G11C13/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 王波波 |
地址: | 100871*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本申请公开了一种存储器件、存储器阵列及其制造方法,其中,该存储器件包括:由n型半导体材料组成的下电极层;位于下电极层上的阻变材料层;以及位于阻变材料层上的由金属材料组成的上电极层。该存储器件是自整流的可变电阻,可应用于交差阵列存储电路结构,并且适于按比例尺寸缩小,从而可以提高存储器的存储密度。 | ||
搜索关键词: | 存储 器件 存储器 阵列 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种存储器件,包括:由n型半导体材料组成的下电极层;位于下电极层上的阻变材料层;以及位于阻变材料层上的由金属材料组成的上电极层。
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